Deposizione chimica da vapore (CVD) di parilene
Deposizione del parilene: comprendere il processo di Gorham. Il parilene è un polimero che non può essere applicato a pennello, per immersione o a spruzzo. Si forma direttamente sul pezzo da proteggere, molecola per molecola, a partire da un vapore. La deposizione chimica da vapore del parilene, sviluppata da William Gorham negli anni ’60, avviene sotto vuoto e consiste in tre fasi successive, […]
Deposizione chimica da vapore assistita da plasma (PECVD)
Principio del PECVD: il deposito di SiO₂ mediante CVD convenzionale richiede temperature del substrato di diverse centinaia di gradi, il che esclude l’utilizzo di componenti elettronici, giunti saldati e polimeri. Il PECVD sostituisce l’energia termica con l’energia elettrica. Un campo a radiofrequenza a 13,56 MHz mantiene attivo un plasma all’interno del reattore, ovvero un gas parzialmente ionizzato contenente elettroni liberi, ioni e radicali. Gli elettroni, essendo leggeri, […]
Processo di deposizione a strato atomico (ALD)
Il principio ALD, il CVD e il PECVD (tutti disponibili nei nostri sistemi di deposizione CX-30, CX-300 e CX-600) sono processi continui: il precursore fluisce all’interno, il film si forma e lo spessore è determinato dal tempo di deposizione. Il processo di deposizione a strato atomico (ALD), sviluppato da Tuomo Suntola negli anni ’70, suddivide la crescita in due semireazioni che non avvengono mai in […]
Chimica, classi e proprietà del parilene
Un polimero per proteggere i componenti elettronici. Il parilene è un materiale ampiamente utilizzato, applicato soprattutto su circuiti elettronici critici per garantire una protezione efficace in condizioni ambientali estreme. Il parilene è il materiale di elezione soprattutto nei settori dei dispositivi medici, aerospaziale e spaziale. Il parilene è un polimero dalle proprietà uniche e con un processo di deposizione particolare. Il vapore […]