Materiali e processi

Deposizione chimica da vapore (CVD) di parilene

Deposizione del parilene: comprendere il processo di Gorham Il parilene è un polimero che non può essere applicato a pennello, per immersione o a spruzzo. Si forma direttamente sul pezzo da proteggere, molecola per mole...

Deposizione chimica da vapore assistita da plasma (PECVD)

Principio del PECVD Il deposito di SiO₂ mediante CVD convenzionale richiede temperature del substrato di diverse centinaia di gradi, il che esclude l'applicazione a componenti elettronici, giunti saldati e polimeri. Il PECVD sostituisce l'energia termica...

Processo di deposizione a strato atomico (ALD)

Principio dell'ALD Il CVD e il PECVD (entrambi disponibili nei nostri sistemi di deposizione CX-30, CX-300 e CX-600) sono processi continui: il precursore entra nel sistema, il film si forma e lo spessore viene determinato dalla deposizione...

Chimica, classi e proprietà del parilene

Un polimero per proteggere i componenti elettronici Il parilene è un materiale ampiamente utilizzato, applicato soprattutto sui circuiti elettronici critici per garantire una protezione efficace in ambienti difficili. In particolare per...