Potenzia le tue capacità produttive con il sistema all’avanguardia CXC-20, progettato per la realizzazione di rivestimenti barriera multistrato altamente ermetici composti da film sottili di parilene e ceramica. Il nuovo sistema presenta le seguenti caratteristiche:
Scopri una protezione e prestazioni senza pari con il sistema combinato CXC-20.
Affidatevi alla nostra innovazione per ottenere rivestimenti barriera di qualità superiore per le vostre applicazioni più esigenti.
Scopri le prestazioni di barriera superiori di CX ULTIMA realizzato con il NUOVO sistema CXC-20 ALD/Parylene.
Questa tecnologia esclusiva garantisce un tasso di trasmissione del vapore acqueo eccezionalmente basso, pari a soli 3 × 10⁻⁵ g/m²/giorno. Questa barriera resistente è stata sottoposta a test rigorosi e si è dimostrata efficace su una vasta gamma di substrati, compresi materiali flessibili e morbidi come le membrane in silicone.
Affidatevi alla nostra soluzione all’avanguardia per proteggere i vostri prodotti dall’umidità e garantirne una lunga durata.
Proteggete i vostri dispositivi medici impiantabili attivi (AIMD), quali i dispositivi flessibili come gli stimolatori nervosi, dai danni causati dalla corrosione grazie alla nostra avanzata tecnologia multistrato ALD/CVD, integrata nel sistema combinato CXC-20.
Il nostro processo avanzato di rivestimento barriera offre:
Affidatevi al sistema combinato CXC-20 per garantire protezione e prestazioni eccellenti ai vostri dispositivi medici più critici.
Il sistema CXC-20 garantisce una copertura completa di prodotti complessi con una qualità conformativa 3D reale. Le caratteristiche principali includono:
Il CXC-20 è dotato di 2 reattori per processi ALD e CVD, ciascuno con una capacità di 20 litri, ideali per prodotti di piccole dimensioni o per scopi di ricerca
Lo spazio di lavoro disponibile per ciascun reattore è costituito da un cilindro del diametro di 20 cm (7,9 pollici) e dell'altezza di 20 cm (7,9 pollici).
L'ingombro complessivo dell'intero sistema è di 235 x 400 cm (92,5 x 157,5 pollici) e l'altezza è di 210 cm (82,7 pollici).
I prodotti vengono inseriti nel cluster attraverso una porta di inserimento dedicata e poi trasferiti automaticamente da un braccio manipolatore al reattore CVD per la deposizione di parilene oppure al reattore ALD per la deposizione di ceramica.
Il trasferimento da un reattore all'altro viene effettuato sotto vuoto, garantendo:
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