Le parylène est un matériau largement utilisé, principalement appliqué sur des circuits électroniques critiques pour offrir une protection robuste dans des environnements difficiles. En particulier pour les dispositifs médicaux, l'aérospatiale et l'industrie spatiale, le parylène est le matériau de référence.

Le parylène est un polymère aux propriétés uniques et au procédé de déposition particulier, la déposition chimique en phase vapeur (CVD).
La polymérisation en phase vapeur, combinée à une structure moléculaire spécifique, permet la production de films minces hautement imperméables, idéaux pour les revêtements barrières haute performance.
Le parylène est le nom générique d'une famille de polymères thermoplastiques linéaires dérivés du poly-para-xylylène. Sa structure de base est constituée de cycles benzéniques aromatiques reliés par des groupes méthylène (–CH₂–), formant une chaîne polymère thermoplastique linéaire et semi-cristalline. L'unité répétitive fondamentale du parylene N est :
–[ CH₂–C₆H₄–CH₂ ]n–
Cette structure confère une symétrie moléculaire élevée, permettant un empilement compact des chaînes, un degré élevé de cristallinité et des propriétés de barrière exceptionnelles.
Le degré de polymérisation (n) atteint généralement des valeurs de l'ordre de plusieurs dizaines de milliers, ce qui permet d'obtenir des films de masse moléculaire élevée (Mw ~500 000–1 000 000 g/mol) présentant une excellente intégrité mécanique. La cristallinité confère rigidité, résistance chimique et propriétés de barrière à l'humidité.
Contrairement aux revêtements liquides classiques, le parylène n'existe jamais sous forme liquide : le polymère se forme directement sur la surface du substrat par polymérisation de monomères gazeux à température ambiante, un procédé unique qui lui confère ses propriétés de revêtement parfaitement conformes.
Le parylène est déposé par un procédé CVD (dépôt chimique en phase vapeur) en trois étapes, réalisé sous vide. Ce procédé unique, sans solvant ni catalyseur, à température ambiante, permet un revêtement uniforme de toutes les surfaces, y compris les géométries 3D complexes, les cavités et les sous-surfaces.
Le procédé de revêtement de parylène est un procédé CVD sous vide en trois étapes. Chaque étape présente des caractéristiques thermodynamiques et cinétiques distinctes.
Stage 1 — Sublimation du Dimère (Vaporisation)
~150 °C · sous vide
Le dimère solide (poudre de di-para-xylylène) est chauffé jusqu'à sublimation, passant directement de la phase solide à la phase gazeuse sans passer par l'état liquide.
Stage 2 — Clivage pyrolytique (Cracking)
~680 °C · four tubulaire
Le dimère gazeux passe dans un four à haute température qui rompt la liaison C–C centrale du dimère, produisant deux radicaux monomères de para-xylylène hautement réactifs.
Stage 3 — Déposition et polymérisation
Chambre de déposition à température ambiante
La vapeur de monomère pénètre dans la chambre à température ambiante. En se condensant sur toutes les surfaces, elle polymérise spontanément, formant molécule par molécule un film continu.
Cette polymérisation de surface en phase vapeur ne nécessite ni solvant, ni initiateur, ni catalyseur, et se déroule à température ambiante sur le substrat. Le film obtenu est d'une pureté exceptionnelle (>99,9 % en poids), exempt de défauts, et se développe simultanément sur toutes les surfaces exposées, quelle que soit leur géométrie, y compris les cavités, les interstices capillaires et les faces inférieures des composants, une conformité qu'aucun revêtement liquide ne peut égaler.

Cinq qualités sont disponibles, chacune résulte d'une modification de la structure chimique de base par substitution d'atomes d'hydrogène par des halogènes (chlore, fluor) ou d'autres groupes fonctionnels.
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